干膜抗蝕劑及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111415164.7 申請日 -
公開（公告）號 CN114114837A 公開（公告）日 2022-03-01
申請公布號 CN114114837A 申請公布日 2022-03-01
分類號 G03F7/027（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 朱薛妍;嚴曉慧;李偉杰;張浙南 申請（專利權(quán)）人 杭州福斯特電子材料有限公司
代理機構(gòu) 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 梁文惠
地址 311300浙江省杭州市臨安區(qū)錦北街道福斯特街8號1幢212
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種干膜抗蝕劑及其制備方法。干膜抗蝕劑包括支撐層和抗蝕劑層，形成抗蝕劑層的原料包括堿溶性樹脂、可光聚合單體和光引發(fā)劑，其特征在于，抗蝕劑層為預(yù)交聯(lián)層，抗蝕劑層的交聯(lián)度為2％～15％。將抗蝕劑層設(shè)置為預(yù)交聯(lián)層，即在收卷之前其為經(jīng)過部分交聯(lián)的結(jié)構(gòu)，經(jīng)過預(yù)交聯(lián)后抗蝕劑層的流動性得到了有效控制，且通過對抗蝕劑層交聯(lián)度的控制又保證了其具有足夠的追隨性。同時，上述交聯(lián)度為2％～15％的抗蝕劑層，其具有足夠的解析度和顯影性，不影響其后續(xù)圖形化使用要求。