一種優(yōu)化的化學(xué)氣相沉積工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911375201.9 申請日 -
公開（公告）號 CN111020536B 公開（公告）日 2022-05-24
申請公布號 CN111020536B 申請公布日 2022-05-24
分類號 C23C16/52（2006.01）I;G05D27/02（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 彭雨晴;信吉平 申請（專利權(quán)）人 清華大學(xué)無錫應(yīng)用技術(shù)研究院
代理機構(gòu) 無錫盛陽專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 214000江蘇省無錫市濱湖區(qū)建筑西路777號A3幢13樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種優(yōu)化的化學(xué)氣相沉積工藝，包括以下步驟：（1）將沉積爐的爐內(nèi)空間劃分成多個控制空間；（2）采集各控制空間內(nèi)的實際溫度值和實際流量值；（3）計算出實際與理論的差值；（4）根據(jù)差值進(jìn)行溫度補償和流量補償。本發(fā)明利用數(shù)字孿生技術(shù)，對沉積爐的內(nèi)腔分空間建造數(shù)字孿生模型，達(dá)到生產(chǎn)時，分空間實時監(jiān)控沉積爐內(nèi)溫度和影響沉積的物質(zhì)的流量，實現(xiàn)整個溫度場及流體場控制過程的可視化，通過對采集的實際溫度和影響沉積的物質(zhì)的實際流量與理論數(shù)據(jù)融合，得到誤差補償結(jié)果，以此分空間進(jìn)行溫度和流量補償，從而實現(xiàn)了保證沉積爐內(nèi)溫度場和流體場分布均勻。