一種利用飛秒激光制備納米帶的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010547908.X 申請日 -
公開(公告)號 CN111673271A 公開(公告)日 2020-09-18
申請公布號 CN111673271A 申請公布日 2020-09-18
分類號 B23K26/06(2014.01)I 分類 -
發(fā)明人 趙全忠 申請(專利權(quán))人 南京萃智激光應(yīng)用技術(shù)研究院有限公司
代理機構(gòu) 南京華恒專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 南京萃智激光應(yīng)用技術(shù)研究院有限公司
地址 210038江蘇省南京市棲霞區(qū)恒園路1號龍港科技園A棟601
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種利用飛秒激光制備納米帶的方法,包括以下幾個步驟:第一步,在基底上沉積一層待加工薄膜;第二步,將沉積有所述薄膜的基底放置在可移動的工作臺上;第三步,將單束飛秒激光的能量調(diào)節(jié)到至所述薄膜材料的燒蝕閾值;第四步,將飛秒激光經(jīng)物鏡聚焦到所述薄膜表面,移動工作臺,使飛秒激光根據(jù)預(yù)設(shè)參數(shù)掃描所述薄膜表面,使掃描的區(qū)域燒蝕掉,而未掃描的區(qū)域剝離而形成納米帶。本發(fā)明所提供的納米帶制備方法,克服了傳統(tǒng)方法制備納米帶形狀單一的不足,利用飛秒激光靈活的三維加工特性,通過飛秒激光的冷加工特征對薄膜進行燒蝕,可以制備出根據(jù)程序預(yù)先設(shè)定任意形狀的納米帶。??