一種濺射靶材及用該濺射靶材制作的CIGS基薄膜太陽(yáng)能電池
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201510711517.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN105355681B | 公開(公告)日 | 2017-09-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN105355681B | 申請(qǐng)公布日 | 2017-09-08 |
分類號(hào) | H01L31/032(2006.01)I;H01L31/0749(2012.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李藝明;鄧國(guó)云 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廈門神科太陽(yáng)能有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廈門市首創(chuàng)君合專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 張松亭;游學(xué)明 |
地址 | 361000 福建省廈門市火炬高新區(qū)創(chuàng)業(yè)園偉業(yè)樓南樓S102A室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種濺射靶材及用該濺射靶材制作的CIGS基薄膜太陽(yáng)能電池,通過(guò)在硒化鋅材料中摻入一定量的B、Al、Ga、In元素來(lái)制作硒化鋅濺射靶材,并用該硒化鋅濺射靶來(lái)制作無(wú)鎘的薄膜太陽(yáng)能電池,本發(fā)明的硒化鋅濺射靶材可使用DC濺射沉積或AC濺射沉積,可避免使用復(fù)雜的RF濺射設(shè)備沉積硒化鋅膜層,可降低薄膜電池的制造成本。 |
