一種CIGS基薄膜太陽能電池及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201510362598.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN105140320B | 公開(公告)日 | 2017-06-23 |
申請公布號(hào) | CN105140320B | 申請公布日 | 2017-06-23 |
分類號(hào) | H01L31/0352;H01L31/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李藝明;田宏波;鄧國云 | 申請(專利權(quán))人 | 廈門神科太陽能有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廈門市首創(chuàng)君合專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 張松亭 |
地址 | 361000 福建省廈門市火炬高新區(qū)創(chuàng)業(yè)園偉業(yè)樓南樓S102A室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種用于形成CIGS基薄膜太陽能電池的方法,包括基板,在基板上沉積金屬背電極層,接著對金屬背電極層進(jìn)行P1刻劃,接著沉積一層MoSx(0<x≤2)或Mo(S1?xSex)y(0<x<1,0<y≤2)薄膜層,接著在其上形成光吸收層,在光吸收層上沉積緩沖層,在緩沖層上沉積透明導(dǎo)電窗口層。通過在形成光吸收層之前先沉積一層MoSx(0<x≤2)或Mo(S1?xSex)y(0<x<1,0<y≤2)薄膜層,可有效降低電池內(nèi)部的分流作用,提高電池的并聯(lián)電阻和填充因子。 |
