含鈦中高溫太陽(yáng)能吸收涂層的制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210530623.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN103866233B 公開（公告）日 2016-03-16
申請(qǐng)公布號(hào) CN103866233B 申請(qǐng)公布日 2016-03-16
分類號(hào) C23C14/14(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;F24J2/48(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王軒;張敏;尹萬(wàn)里;孫守建;朱敦智 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京市太陽(yáng)能研究所有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 韓國(guó)勝
地址 100012 北京市朝陽(yáng)區(qū)北苑路大羊坊10號(hào)桑普大廈
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種含鈦中高溫太陽(yáng)能吸收涂層的制備方法，其包括以下步驟：S1.選擇基體，在基體上制備一層鋁膜作為金屬紅外反射層；S2.以純鈦為靶材，以氬氣和氮?dú)獾幕旌蠚怏w作為濺射氣體，采用磁控濺射在金屬紅外反射層上制備第一吸收層；S3.保持步驟S2中的靶材和濺射氣體種類不變，減小濺射電流，同時(shí)減少氮?dú)饬髁?，在第一吸收層上制備第二吸收層；S4.制備光學(xué)減反射層。采用本發(fā)明提供的方法，大大簡(jiǎn)化了中高溫太陽(yáng)能吸收涂層制備的生產(chǎn)工藝，且因鈦原料便宜而降低了成本，并節(jié)省了生產(chǎn)時(shí)間；反應(yīng)氣體只需用到氮?dú)?，無(wú)需氧氣，這進(jìn)一步簡(jiǎn)化了工藝，不但節(jié)省了氣體來回切換的時(shí)間，還降低了氧化反應(yīng)造成靶中毒、陽(yáng)極消失的風(fēng)險(xiǎn)。