中高溫光譜選擇性吸收涂層

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210442227.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN102954611B 公開（公告）日 2014-09-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN102954611B 申請(qǐng)公布日 2014-09-17
分類號(hào) F24J2/48(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 供熱；爐灶；通風(fēng);
發(fā)明人 王軒;張敏;尹萬里;崔銀芳;孫守建;朱敦智 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京市太陽(yáng)能研究所有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 韓國(guó)勝
地址 100012 北京市朝陽(yáng)區(qū)北苑路大羊坊10號(hào)桑普大廈
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種光譜選擇性吸收涂層領(lǐng)域，特別涉及一種中高溫光譜選擇性吸收涂層。該中高溫光譜選擇性吸收涂層包括五層膜，由內(nèi)而外依次是基底粘結(jié)層、紅外反射層、鈍化層、第一吸收層、第二吸收層和光學(xué)減反射層，所述第一吸收層和所述第二吸收層均為金屬陶瓷復(fù)合膜，并且所述第一吸收層中金屬組分所占的體積百分比大于所述第二吸收層中金屬組分所占的體積百分比。本發(fā)明提供的中高溫光譜選擇性吸收涂層，可在中高溫環(huán)境下工作，其光熱轉(zhuǎn)化率高，熱穩(wěn)定性好、工作溫度高且吸收發(fā)射比高。