一種鋁電解槽陰極結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201420258023.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN203878225U | 公開(kāi)(公告)日 | 2014-10-15 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN203878225U | 申請(qǐng)公布日 | 2014-10-15 |
分類(lèi)號(hào) | C25C3/08(2006.01)I | 分類(lèi) | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
發(fā)明人 | 陳喜平;梁學(xué)民;康曉東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 湖南中大冶金設(shè)計(jì)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 鄭州大通專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 陳大通 |
地址 | 450002 河南省鄭州市金水區(qū)經(jīng)三路32號(hào)財(cái)富廣場(chǎng)2號(hào)樓13層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型具體涉及一種鋁電解槽陰極結(jié)構(gòu)。包括陰極碳?jí)K和陰極鋼棒,陰極碳?jí)K在電解槽內(nèi)自煙道端至出鋁端橫向設(shè)置有一排多個(gè),陰極碳?jí)K包括上表面設(shè)有凸臺(tái)的異形陰極碳?jí)K和不設(shè)置凸臺(tái)的普通陰極碳?jí)K,帶凸臺(tái)的異形陰極碳?jí)K上表面凸臺(tái)的分布受電解槽流速場(chǎng)影響,鋁液流速大的區(qū)域陰極碳?jí)K上表面凸臺(tái)分布稠密,鋁液流速小的區(qū)域陰極碳?jí)K上表面凸臺(tái)分布稀疏,且?guī)古_(tái)的異形陰極碳?jí)K呈連續(xù)或間隔分布在電解槽內(nèi),相鄰的陰極碳?jí)K上的凸臺(tái)前后位置錯(cuò)開(kāi)。本實(shí)用新型能減緩鋁液流速、降低垂直磁場(chǎng)的影響、減小水平電流,提高電解槽的穩(wěn)定性,提高電流效率,還能保證電解質(zhì)正常流動(dòng),有利于槽內(nèi)氧化鋁濃度分布均勻,同時(shí)又避免氧化鋁滯留溝槽內(nèi),成為爐底沉淀,達(dá)到整體節(jié)能降耗的目的。 |
