一種蒸鍍裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111163706.6 申請日 -
公開（公告）號 CN113802095A 公開（公告）日 2021-12-17
申請公布號 CN113802095A 申請公布日 2021-12-17
分類號 C23C14/26（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 何軍舫;王軍勇 申請（專利權(quán)）人 北京博宇半導體工藝器皿技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 北京中政聯(lián)科專利代理事務所（普通合伙） 代理人 鄭久興
地址 101101北京市通州區(qū)張家灣鎮(zhèn)云杉路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種蒸鍍裝置，蒸鍍裝置包括加熱腔、加熱電極和電極連接結(jié)構(gòu)。加熱腔包括加熱筒和設于所述加熱筒底部的加熱底殼；加熱電極用于為加熱腔提供熱源；電極連接結(jié)構(gòu)用于將所述加熱腔和所述加熱底殼連接。本發(fā)明實施例中，加熱電極設置于加熱腔的加熱底殼上，設置于加熱底殼上不與加熱腔的外圍設備存在位置干涉，實現(xiàn)從蒸鍍設備的上部開口處安裝及取出，有利于加熱器的維護以及更換。