一種分級式蒸發(fā)源及蒸鍍裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111293907.8 申請日 -
公開（公告）號 CN114000110A 公開（公告）日 2022-02-01
申請公布號 CN114000110A 申請公布日 2022-02-01
分類號 C23C14/26（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳景升 申請（專利權(quán)）人 江蘇微邁思半導(dǎo)體科技有限公司
代理機構(gòu) 南京普睿益思知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 杜朝霞
地址 221000江蘇省徐州市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)楊山路21-6科技創(chuàng)業(yè)大廈
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種分級式蒸發(fā)源及蒸鍍裝置，包括蒸鍍坩堝，所述蒸鍍坩堝外部包裹有防護(hù)殼，所述蒸鍍坩堝放置于防護(hù)殼內(nèi)，所述防護(hù)殼上面設(shè)有開口，所述蒸鍍坩堝上端伸出開口設(shè)置，所述蒸鍍坩堝外側(cè)面上且從上至下依次纏繞有若干層電磁線圈，每層所述電磁線圈另一端均電連有控制組件，每層所述電磁線圈纏繞的緊密度不同。本發(fā)明的優(yōu)點：其可使坩堝的加熱具有梯度化且可使熱量的散失較少，能夠保證原材料的融化速度和融化效果。