一種面式蒸發(fā)源及蒸鍍?cè)O(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111295199.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114000111A | 公開（公告）日 | 2022-02-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114000111A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-01 |
| 分類號(hào) | C23C14/26（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 陳景升 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江蘇微邁思半導(dǎo)體科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京普睿益思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 杜朝霞 |
| 地址 | 221000江蘇省徐州市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)楊山路21-6科技創(chuàng)業(yè)大廈 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種面式蒸發(fā)源及蒸鍍?cè)O(shè)備，包括外殼體，所述外殼體內(nèi)放置有蒸鍍坩堝，所述蒸鍍坩堝內(nèi)從一端至另一端均勻開設(shè)有若干個(gè)蒸鍍腔，所述蒸鍍腔上端一體成型有窄口，所述窄口上端一體成型有開放噴口，兩兩所述開放噴口的噴射面相銜接，所述蒸鍍坩堝內(nèi)且圍繞每個(gè)所述蒸鍍腔纏繞有電磁線圈，所述蒸鍍坩堝上方處安裝有基板調(diào)節(jié)組件。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)：其可對(duì)基板進(jìn)行一次性噴射且噴射均勻度較好，整體工作效率較高。 |
