一種具有均勻分散噴頭的坩堝蓋

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121165323.8 申請日 -
公開（公告）號 CN214830626U 公開（公告）日 2021-11-23
申請公布號 CN214830626U 申請公布日 2021-11-23
分類號 C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;H01L51/56（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳景升;張正才;岳彩玉 申請（專利權(quán)）人 江蘇微邁思半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州國卓知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 周鑫
地址 221000江蘇省常州市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)徐莊鎮(zhèn)府中路66號徐莊之星眾創(chuàng)空間303房間
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種具有均勻分散噴頭的坩堝蓋，涉及坩堝技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種具有均勻分散噴頭的坩堝蓋，包括坩堝蓋本體、坩堝本體，所述坩堝蓋本體的表面開設(shè)有噴頭孔。該具有均勻分散噴頭的坩堝蓋，通過噴頭孔、第一蓋板、第二蓋板、第三蓋板和堵頭的配合使用，當(dāng)需要進(jìn)行噴鍍時(shí)，根據(jù)蒸鍍材料的大小，從而選擇性取走第三蓋板、第二蓋板或第一蓋板，帶動(dòng)堵頭從噴頭孔的內(nèi)腔抽出，從而漏出合適的噴頭大小，避免了傳統(tǒng)的具有均勻分散噴頭的坩堝蓋不能根據(jù)實(shí)際需要調(diào)整噴頭的使用區(qū)域，導(dǎo)致噴鍍蒸氣噴鍍到噴鍍材料其它區(qū)域的問題，提高了該具有均勻分散噴頭的坩堝蓋的實(shí)用性。