一種石墨盤

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201711063370.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN107587118B 公開（公告）日 2020-03-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN107587118B 申請(qǐng)公布日 2020-03-03
分類號(hào) C23C16/458 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 羅睿宏;翟勇鵬;張曉榮;黃香魁 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇華功半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 江蘇華功半導(dǎo)體有限公司;華潤(rùn)微電子控股有限公司
地址 215211 江蘇省蘇州市吳江區(qū)黎里鎮(zhèn)汾湖大道558號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實(shí)施例公開了一種石墨盤，該石墨盤包括：第一石墨盤和至少一個(gè)第二石墨盤；第一石墨盤上設(shè)有用于放置第二石墨盤的至少一個(gè)凹槽，凹槽底部設(shè)置有螺旋型通氣軌道槽，凹槽底部中心還設(shè)置有用于固定第二石墨盤的支撐柱；第二石墨盤的底部中心設(shè)置有與支撐柱匹配的固定槽，第二石墨盤通過固定槽固定在第一石墨盤的凹槽的支撐柱上；第二石墨盤包括片槽和片槽擋墻，片槽擋墻上設(shè)置有多個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)，任意相鄰兩個(gè)凹槽結(jié)構(gòu)之間存在間隔。本發(fā)明實(shí)施例提供的石墨盤，提高了第二石墨盤的片槽邊緣與片槽中心的溫度場(chǎng)的均勻性，使氣流可以更好的流過放置在第二石墨盤中的襯底的表面，襯底上的外延層邊緣生長(zhǎng)效果好，厚度均勻，外延層的質(zhì)量更好。