一種用于ITO/Ag/ITO薄膜一步刻蝕的蝕刻液
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010196688.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111286334A | 公開（公告）日 | 2020-06-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111286334A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-06-16 |
| 分類號(hào) | C09K13/06(2006.01)I;C23F1/30(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 莊英毅;王雪剛 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廈門思美科新材料有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京科億知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 廈門思美科新材料有限公司 |
| 地址 | 361000福建省廈門市中國(guó)(福建)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)廈門片區(qū)港中1730號(hào)01單元501 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種用于ITO/Ag/ITO薄膜一步刻蝕的蝕刻液，所述的蝕刻液由總重量8wt％～27wt％的醋酸、5wt％～25wt％的硝酸、37wt％～70wt％的磷酸、0.1～3wt％的草酸、0.1～1wt％的表面活性劑和0.2～3wt％的鹽組成，余量為去離子水；本申請(qǐng)對(duì)應(yīng)的配比方案使得蝕刻液能夠在溫和的條件下對(duì)ITO/Ag/ITO多層薄膜進(jìn)行蝕刻，且蝕刻后不會(huì)有殘?jiān)⒕€條平整、精度高；而且能夠滲透、浸潤(rùn)到需要蝕刻的部位，從而提高蝕刻效率，以獲得更高的蝕刻均勻性，以及更準(zhǔn)確的蝕刻角度，刻蝕穩(wěn)定性強(qiáng)；同時(shí)蝕刻液使用壽命延長(zhǎng)到60小時(shí)，而且刻蝕時(shí)間也縮短至50s，能夠滿足高端平板顯示器件生產(chǎn)工藝需求。?? |
