一種石英擺片的制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010751436.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111847847B 公開(kāi)（公告）日 2022-05-06
申請(qǐng)公布號(hào) CN111847847B 申請(qǐng)公布日 2022-05-06
分類號(hào) C03B20/00（2006.01）I;C03C23/00（2006.01）I;C03C15/00（2006.01）I;C03C17/38（2006.01）I;C03C17/40（2006.01）I;G01P15/02（2013.01）I 分類 玻璃；礦棉或渣棉;
發(fā)明人 王立會(huì);陳天平;李克光;韓紅賓;郭星 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 保定開(kāi)拓精密儀器制造有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 北京圣州專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王振佳
地址 074004河北省保定市白溝新城友誼東路CT機(jī)工業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種石英擺片的制備方法，包括：S1、晶圓基材清洗，S2、晶圓正面金屬層沉積，S3、晶圓背面金屬層沉積，S4、勻膠、曝光，S5、顯影，S6、金屬層腐蝕，S7、基材腐蝕，S8、取片、存儲(chǔ)。晶圓上均勻的設(shè)置有若干個(gè)擺片，同時(shí)可以對(duì)多個(gè)擺片進(jìn)行加工，不僅提高了擺片的加工效率，而且提高了擺片質(zhì)量的一致性。使用光刻工藝對(duì)晶圓上沉積金屬層進(jìn)行加工，使得金屬層具有掩膜的作用，能夠提高產(chǎn)品的加工精度。本發(fā)明采用上述石英擺片的制備方法，能夠解決現(xiàn)有的擺片生產(chǎn)效率低、精度低和質(zhì)量穩(wěn)定性差的問(wèn)題。