垂直型濺射系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201820112880.5 申請日 -
公開（公告）號 CN208038541U 公開（公告）日 2018-11-02
申請公布號 CN208038541U 申請公布日 2018-11-02
分類號 C23C14/34 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 白雨成;全義九;李相文;張昌泳;丁鐘國;邊娜恩 申請（專利權）人 勝顯（上海）商貿有限公司
代理機構 上海漢聲知識產權代理有限公司 代理人 勝顯（上海）商貿有限公司;株式會社SELCOS
地址 韓國京畿道華城市東灘面東灘工業(yè)園10路42
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種垂直型濺射系統(tǒng)，包括與地面垂直設置在第一濺射槍的第一垂直靶材組件；及設置在面對第一濺射槍的第二濺射槍，并設置為與第一垂直靶材組件相隔彼此面對的第二垂直靶材組件，第一及第二垂直靶材組件分別包括釋放薄膜形成物質的靶材；將靶材固定在濺射槍的靶材夾具；覆蓋靶材夾具，并與靶材連接相同電極的屏蔽部件。本實用新型優(yōu)點如下：靶材夾具與屏蔽部件之間不會發(fā)生短路，可以對被濺鍍物有效地進行濺射。本實用新型使被濺鍍物可通過相互面對垂直設置的一對垂直靶材組件，具有可以減小安裝面積的優(yōu)點。而且，相互面對的2個垂直靶材組件分別向相互面對的2個被濺鍍物進行濺鍍，具有提高濺射生產率的優(yōu)點。