一種濺射裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201820111755.2 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN208038538U 公開（公告）日 2018-11-02
申請公布號(hào) CN208038538U 申請公布日 2018-11-02
分類號(hào) C23C14/34 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 白雨成;全義九;李相文;張昌泳;丁鐘國;邊娜恩 申請（專利權(quán)）人 勝顯（上海）商貿(mào)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海漢聲知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 勝顯（上海）商貿(mào)有限公司;株式會(huì)社SELCOS
地址 韓國京畿道華城市東灘面東灘工業(yè)園10路42
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種濺射裝置，包括第一旋轉(zhuǎn)靶材、第二旋轉(zhuǎn)靶材、被濺鍍物、主遮擋板單元、濺鍍罩單元、控制部以及靶材；第一旋轉(zhuǎn)靶材和第二旋轉(zhuǎn)靶材并列設(shè)置、呈正棱柱狀且能夠中心旋轉(zhuǎn)；被濺鍍物設(shè)置在第一旋轉(zhuǎn)靶材和第二旋轉(zhuǎn)靶材的下方；主遮擋板單元設(shè)置在第一旋轉(zhuǎn)靶材、第二旋轉(zhuǎn)靶材及被濺鍍物之間；濺鍍罩單元設(shè)置在主遮擋板單元及被濺鍍物之間；控制部用于控制第一旋轉(zhuǎn)靶材、第二旋轉(zhuǎn)靶材、主遮擋板單元以及濺鍍罩單元；第一旋轉(zhuǎn)靶材、第二旋轉(zhuǎn)靶材側(cè)面分別設(shè)置釋放不同濺鍍物質(zhì)的靶材。本方案能夠滿足利用兩種靶材，在一個(gè)基板上用一次工藝濺鍍多種混合比例的薄膜，或能夠在一個(gè)基板上濺鍍具有特定混合比例的兩種濺鍍物質(zhì)的薄膜。