一種沉積石墨烯薄膜的設備及其沉積方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610941638.4 申請日 -
公開（公告）號 CN106480423B 公開（公告）日 2019-01-11
申請公布號 CN106480423B 申請公布日 2019-01-11
分類號 C23C16/26;C23C16/50 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李恕廣 申請（專利權）人 山東賽帝格新材料有限責任公司
代理機構 煙臺上禾知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 劉志毅
地址 264000 山東省煙臺市牟平區(qū)官莊4街2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種沉積石墨烯薄膜的設備，包括腔體，腔體的頂部設置有電極板，腔體的底部設置有加熱板，加熱板上設置有若干個支架，支架上放置有沉積基板，腔體的側壁設置有若干個第一氣孔；加熱板內設置有若干個相互平行的加熱棒，加熱棒與加熱板頂部之間設置有導熱板，導熱板與加熱棒之間設置有第一真空腔室，相鄰兩個加熱棒之間設置有第二氣孔；氣源供氣管通過分流閥連接有第一供氣支路和第二供氣支路，氣源供氣管上設置有預加熱器，第一供氣支路連接至第一氣孔，第二供氣支路連接至第二氣孔。本發(fā)明還公開了一種使用上述沉積石墨烯薄膜的設備的沉積方法。本發(fā)明能夠改進現(xiàn)有技術的不足，可以提高石墨烯沉積的產品良率。