一種沉積石墨烯薄膜的設(shè)備及其沉積方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610941638.4 申請日 -
公開（公告）號 CN106480423A 公開（公告）日 2017-03-08
申請公布號 CN106480423A 申請公布日 2017-03-08
分類號 C23C16/26(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李恕廣 申請（專利權(quán)）人 山東賽帝格新材料有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 煙臺上禾知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 劉志毅
地址 264000 山東省煙臺市萊山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)澳柯瑪大街101號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種沉積石墨烯薄膜的設(shè)備，包括腔體，腔體的頂部設(shè)置有電極板，腔體的底部設(shè)置有加熱板，加熱板上設(shè)置有若干個(gè)支架，支架上放置有沉積基板，腔體的側(cè)壁設(shè)置有若干個(gè)第一氣孔；加熱板內(nèi)設(shè)置有若干個(gè)相互平行的加熱棒，加熱棒與加熱板頂部之間設(shè)置有導(dǎo)熱板，導(dǎo)熱板與加熱棒之間設(shè)置有第一真空腔室，相鄰兩個(gè)加熱棒之間設(shè)置有第二氣孔；氣源供氣管通過分流閥連接有第一供氣支路和第二供氣支路，氣源供氣管上設(shè)置有預(yù)加熱器，第一供氣支路連接至第一氣孔，第二供氣支路連接至第二氣孔。本發(fā)明還公開了一種使用上述沉積石墨烯薄膜的設(shè)備的沉積方法。本發(fā)明能夠改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)的不足，可以提高石墨烯沉積的產(chǎn)品良率。