一種線性蒸發(fā)源裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201220704968.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN202968676U | 公開(公告)日 | 2013-06-05 |
申請公布號 | CN202968676U | 申請公布日 | 2013-06-05 |
分類號 | C23C14/26(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 于大洋;王葛;丁建 | 申請(專利權(quán))人 | 漢能新能源研發(fā)中心有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 102209 北京市昌平區(qū)北七家鎮(zhèn)宏福創(chuàng)業(yè)園15號院 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及一種蒸發(fā)源裝置,尤其涉及一種銅銦鎵硒薄膜電池生產(chǎn)工藝中的線性蒸發(fā)源裝置。該線性蒸發(fā)源裝置包括:材料腔室、噴嘴蓋和加熱源,所述噴嘴蓋位于所述材料腔室的上方并具有多個噴嘴,所述加熱源的數(shù)量為兩個或兩個以上,均勻分布在所述材料腔室的下方,且每個所述加熱源具有獨立的控溫系統(tǒng)。該線性蒸發(fā)源裝置實現(xiàn)了分區(qū)控溫,從而提高了銅銦鎵硒共蒸發(fā)工藝中對蒸發(fā)量的控制靈活性,同時有效降低了因長時間使用導(dǎo)致的噴嘴堵塞對鍍膜均勻性的影響。 |
