一種用于蝕刻槽的氯離子補充裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121457566.9 申請日 -
公開（公告）號 CN216093623U 公開（公告）日 2022-03-22
申請公布號 CN216093623U 申請公布日 2022-03-22
分類號 B01J19/18（2006.01）I;B01J19/00（2006.01）I;C23F1/46（2006.01）I 分類 一般的物理或化學的方法或裝置;
發(fā)明人 任忠平;尹國欽;陳紹文;卞海剛;蔣晶晶 申請（專利權）人 寧波福至新材料有限公司
代理機構 上海泰能知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 王亮;孫健
地址 315800浙江省寧波市北侖區(qū)柴橋街道芯善路188號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種用于蝕刻槽的氯離子補充裝置，包括蝕刻槽蓋、縱向輸送管和豎直輸出管，所述的蝕刻槽蓋上對稱安裝有兩個豎直穿過蝕刻槽蓋的豎直輸出管，豎直輸出管的上端均設置有朝后延伸的縱向輸送管，兩個縱向輸送管后端之間設置有橫向輸送管，橫向輸送管中部后側設置有對接管，所述的豎直輸出管下端安裝有擴散罩。本實用新型通過補充氯離子量保證蝕刻液內的三氯化鐵的含量能夠保證蝕刻液濃度，確保蝕刻反應速度，確保生產(chǎn)效率。