一種帶有輸氧裝置的蝕刻槽

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121400465.8 申請日 -
公開（公告）號 CN215103566U 公開（公告）日 2021-12-10
申請公布號 CN215103566U 申請公布日 2021-12-10
分類號 C23F1/08 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 任忠平;尹國欽;陳紹文;卞海剛;蔣晶晶 申請（專利權(quán)）人 寧波福至新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海泰能知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王亮;孫健
地址 315800 浙江省寧波市北侖區(qū)柴橋街道芯善路188號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種帶有輸氧裝置的蝕刻槽，包括蝕刻槽本體、槽體和放置座，所述的蝕刻槽本體上端面設(shè)置有槽體，所述的槽體底面中部設(shè)置有放置座，放置座端面中部以及四角處均設(shè)置有輸氣管，所述的蝕刻槽本體下端面中部設(shè)置有與放置座對接的對接塊，所述的對接塊前側(cè)設(shè)置有接頭。本實(shí)用新型具有提高蝕刻液反應(yīng)速度、提高產(chǎn)品的生產(chǎn)效率等特點(diǎn)。