一種噴射式蝕刻槽
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121400464.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215050704U | 公開(公告)日 | 2021-12-07 |
申請公布號 | CN215050704U | 申請公布日 | 2021-12-07 |
分類號 | C23F1/08(2006.01)I;B01D29/52(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 任忠平;尹國欽;陳紹文;卞海剛;蔣晶晶 | 申請(專利權(quán))人 | 寧波福至新材料有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海泰能知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 王亮;孫健 |
地址 | 315800浙江省寧波市北侖區(qū)柴橋街道芯善路188號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及一種噴射式蝕刻槽,包括蝕刻槽本體、槽體、下部回液箱和噴射泵,所述的蝕刻槽本體上端面上設(shè)置有槽體,所述的蝕刻槽本體上端外圈上設(shè)置有若干噴射座,所述的噴射座上設(shè)置有可變噴射管,所述的可變噴射管上設(shè)置有朝向槽體內(nèi)部兩端處的噴嘴,所述的蝕刻槽本體下端設(shè)置有下部回液箱,所述的下部回液箱內(nèi)設(shè)置有回流腔,所述的下部回液箱下端中部設(shè)置有噴射泵,噴射泵下端設(shè)置有噴射頭,所述的噴射頭通過管道與噴射座相連,所述的槽體底面中部以及四角處設(shè)置有過濾孔。本實用新型具有提高蝕刻效率,從而提高產(chǎn)品生產(chǎn)效率、降低蝕刻液消耗,方便工人清理蝕刻槽等特點。 |
