一種用于高精度定位的有源標(biāo)識(shí)物

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202020352099.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN211653312U 公開(kāi)(公告)日 2020-10-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN211653312U 申請(qǐng)公布日 2020-10-09
分類號(hào) G02B27/09(2006.01)I;G01S11/12(2006.01)I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 朱炫霖;王剛;張潔茹;劉佳富;葉玉玲;鄧辰 申請(qǐng)(專利權(quán))人 北京神工科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 北京神工科技有限公司
地址 100010北京市東城區(qū)和平里北街6號(hào)26號(hào)樓1層105室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于高精度定位的有源標(biāo)識(shí)物,包括:底部具有擴(kuò)散板的發(fā)光處理裝置和照射所述擴(kuò)散板的光源,所述發(fā)光處理裝置具有殼體,殼體內(nèi)具有:均光腔、和設(shè)置在均光腔頂部的透光裝置;所述均光腔是由設(shè)置在其頂部的擴(kuò)散板和所述發(fā)光處理裝置的底部擴(kuò)散板,以及表面具有光反射作用的側(cè)面,所圍成的空腔;所述發(fā)光處理裝置的殼體頂部設(shè)有開(kāi)口,所述透光裝置部分從所述開(kāi)口伸出發(fā)光處理裝置之外。該有源標(biāo)識(shí)物具有較高的發(fā)光均勻性、較高的發(fā)光區(qū)域邊界線銳度和更高的組合和安裝的靈活度,非常有利于在高精度要求場(chǎng)合下,作為相機(jī)觀察的標(biāo)識(shí)物,以輔助進(jìn)行準(zhǔn)確的視覺(jué)采集和標(biāo)定。??