一種阻焊曝光方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710181528.7 申請日 -
公開（公告）號 CN106707700A 公開（公告）日 2017-05-24
申請公布號 CN106707700A 申請公布日 2017-05-24
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 傅志偉 申請（專利權）人 江蘇影速科技有限公司
代理機構 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 代理人 上海譽刻智能裝備有限公司;江蘇影速光電技術有限公司;江蘇影速集成電路裝備股份有限公司
地址 201612 上海市松江區(qū)中心路1158號9幢401室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種阻焊曝光方法，屬于曝光機技術領域，所述阻焊曝光方法，包括步驟：(1)對樣品的阻焊區(qū)域進行直寫曝光，(2)對樣品整個區(qū)域進行混合波長的平行光曝光，(3)將樣品進行顯影處理，將非阻焊區(qū)域的阻焊層顯影去除；該方法避免了DMD接受多波長混合光，大大延長DMD的使用壽命，降低生產成本，對設備要求較低，利用二次平行光進行能量補償，減少DMD個數，減少成本和設備復雜性，使阻焊層在外觀上有明顯的光澤度，使產品具有更好的抗氧化性和抗沖擊能力，在回流焊過程中性質更加穩(wěn)定。