一種阻焊曝光方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710181528.7 申請日 -
公開（公告）號 CN106707700A 公開（公告）日 2017-05-24
申請公布號 CN106707700A 申請公布日 2017-05-24
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 傅志偉 申請（專利權(quán)）人 江蘇影速科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 哈爾濱市陽光惠遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 上海譽(yù)刻智能裝備有限公司;江蘇影速光電技術(shù)有限公司;江蘇影速集成電路裝備股份有限公司
地址 201612 上海市松江區(qū)中心路1158號9幢401室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種阻焊曝光方法，屬于曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，所述阻焊曝光方法，包括步驟：(1)對樣品的阻焊區(qū)域進(jìn)行直寫曝光，(2)對樣品整個(gè)區(qū)域進(jìn)行混合波長的平行光曝光，(3)將樣品進(jìn)行顯影處理，將非阻焊區(qū)域的阻焊層顯影去除；該方法避免了DMD接受多波長混合光，大大延長DMD的使用壽命，降低生產(chǎn)成本，對設(shè)備要求較低，利用二次平行光進(jìn)行能量補(bǔ)償，減少DMD個(gè)數(shù)，減少成本和設(shè)備復(fù)雜性，使阻焊層在外觀上有明顯的光澤度，使產(chǎn)品具有更好的抗氧化性和抗沖擊能力，在回流焊過程中性質(zhì)更加穩(wěn)定。