一種雙面對(duì)準(zhǔn)的曝光系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201710032482.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN106647188B | 公開（公告）日 | 2017-05-10 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN106647188B | 申請(qǐng)公布日 | 2017-05-10 |
| 分類號(hào) | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 傅志偉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江蘇影速科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 哈爾濱市陽(yáng)光惠遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 江蘇影速集成電路裝備股份有限公司 |
| 地址 | 221000江蘇省徐州市邳州市恒山路西側(cè) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種雙面對(duì)準(zhǔn)的曝光系統(tǒng)，屬于直寫曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的雙面對(duì)準(zhǔn)的曝光系統(tǒng)包括樣品承載裝置和分別位于樣品承載裝置兩側(cè)的對(duì)位裝置和曝光裝置，本發(fā)明提供的雙面對(duì)位曝光方法包括放板、標(biāo)記、翻板、定位和曝光等步驟；實(shí)現(xiàn)了對(duì)半導(dǎo)體、PCB板等產(chǎn)品雙面曝光圖像精確對(duì)位，在定位過程中，使用已有圖形中形狀作為標(biāo)記圖形或使用添加標(biāo)記圖形作為定位用的標(biāo)記，不會(huì)對(duì)板造成永久性的破壞；設(shè)備和方法簡(jiǎn)單，不需要額外添加用于打印或曝光標(biāo)記圖形的設(shè)備，節(jié)約成本。?? |
