一種帶有透明真空吸盤的倒置曝光設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720050159.3 申請日 -
公開（公告）號 CN206411417U 公開（公告）日 2017-08-15
申請公布號 CN206411417U 申請公布日 2017-08-15
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 傅志偉 申請（專利權(quán)）人 江蘇影速科技有限公司
代理機構(gòu) 哈爾濱市陽光惠遠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 上海譽刻智能裝備有限公司;江蘇影速光電技術(shù)有限公司;江蘇影速集成電路裝備股份有限公司
地址 201612 上海市松江區(qū)中心路1158號9幢401室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種帶有透明真空吸盤的倒置曝光設(shè)備，屬于直寫曝光機技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型的帶有透明真空吸盤的倒置曝光設(shè)備，包括支撐結(jié)構(gòu)、曝光裝置、對準裝置、載樣裝置和控制裝置；所述支撐結(jié)構(gòu)下部為一箱體結(jié)構(gòu)，曝光裝置和控制裝置位于所述箱體結(jié)構(gòu)內(nèi)，所述載樣裝置嵌于箱體結(jié)構(gòu)上表面并位于曝光裝置上方；所述支撐結(jié)構(gòu)上部為墻面結(jié)構(gòu)或龍門結(jié)構(gòu)，所述對準裝置與支撐結(jié)構(gòu)上部連接且位于載樣裝置的上方；所述載樣裝置4包括透明真空吸盤和真空發(fā)生裝置。本實用新型的設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)對產(chǎn)品雙面曝光圖像精確對位；設(shè)備簡單，節(jié)約成本。同時，樣品夾放于密閉環(huán)境或真空環(huán)境中，可以避免受到外界環(huán)境的污染，保證了曝光的良好質(zhì)量。