一種倒置曝光設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720053359.4 申請日 -
公開（公告）號 CN206411418U 公開（公告）日 2017-08-15
申請公布號 CN206411418U 申請公布日 2017-08-15
分類號 G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 傅志偉 申請（專利權(quán)）人 江蘇影速科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 哈爾濱市陽光惠遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 上海譽(yù)刻智能裝備有限公司;江蘇影速光電技術(shù)有限公司;江蘇影速集成電路裝備股份有限公司
地址 201612 上海市松江區(qū)中心路1158號9幢401室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種倒置曝光設(shè)備，屬于直寫曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型的倒置曝光設(shè)備，包括支撐結(jié)構(gòu)、曝光裝置、對準(zhǔn)裝置、載樣裝置和控制裝置；所述支撐結(jié)構(gòu)下部為一箱體結(jié)構(gòu)，曝光裝置和控制裝置位于所述箱體結(jié)構(gòu)內(nèi)，所述載樣裝置嵌于箱體結(jié)構(gòu)上表面并位于曝光裝置上方；所述支撐結(jié)構(gòu)上部為墻面結(jié)構(gòu)或龍門結(jié)構(gòu)，所述對準(zhǔn)裝置與支撐結(jié)構(gòu)上部連接且位于載樣裝置的上方。本實用新型的設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)對半導(dǎo)體、PCB板等產(chǎn)品雙面曝光圖像精確對位，不會對板造成永久性的破壞；設(shè)備簡單，不需要額外添加用于打印或曝光標(biāo)記圖形的設(shè)備，節(jié)約成本。