一種雙面對位曝光裝置及含有該裝置的激光直寫設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201720053360.7 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN206479769U 公開（公告）日 2017-09-08
申請公布號(hào) CN206479769U 申請公布日 2017-09-08
分類號(hào) G03F7/20(2006.01)I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 傅志偉 申請（專利權(quán)）人 江蘇影速科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 哈爾濱市陽光惠遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 上海譽(yù)刻智能裝備有限公司;江蘇影速光電技術(shù)有限公司
地址 201612 上海市松江區(qū)中心路1158號(hào)9幢401室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種雙面對位曝光裝置及含有該裝置的激光直寫設(shè)備，屬于直寫曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型的雙面對位曝光裝置包括樣品承載裝置和分別位于樣品承載裝置兩側(cè)的對位裝置和曝光裝置，能夠?qū)崿F(xiàn)對半導(dǎo)體、PCB板等產(chǎn)品雙面曝光圖像精確對位，特別是實(shí)現(xiàn)了對于無定位孔存在的PCB板的內(nèi)層板的雙面曝光的圖像精確對位；本實(shí)用新型的設(shè)備簡單，不需要額外添加用于打印或曝光標(biāo)記圖形的設(shè)備，節(jié)約成本。