一種RC-IGBT芯片及其制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010031299.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN111211168A | 公開(公告)日 | 2020-05-29 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN111211168A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-05-29 |
分類號(hào) | H01L29/739;H01L21/265;H01L21/331 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陽平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海擎茂微電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 溫州知遠(yuǎn)專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 上海擎茂微電子科技有限公司 |
地址 | 201100 上海市閔行區(qū)紫星路588號(hào)2幢1169室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種RC?IGBT芯片,包括IGBT區(qū)及FRD區(qū),IGBT區(qū)及FRD區(qū)內(nèi)均包括P型基區(qū)及接觸區(qū),而IGBT區(qū)內(nèi)P型基區(qū)的厚度及摻雜濃度均大于FRD區(qū)內(nèi)P型基區(qū)的厚度及摻雜濃度,從而提高了其反向恢復(fù)特性。同時(shí)IGBT內(nèi)接觸區(qū)摻雜濃度大于FRD區(qū)內(nèi)摻雜濃度,這有利于減少二極管的反向恢復(fù)電流和反向恢復(fù)損耗,增強(qiáng)器件的魯棒性。此外,本發(fā)明還涉及該RC?IGBT芯片的制造方法。 |
