一種改善擊穿特性的平面柵雙極型晶體管結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921552313.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210607265U | 公開(公告)日 | 2020-05-22 |
申請公布號 | CN210607265U | 申請公布日 | 2020-05-22 |
分類號 | H01L29/739;H01L29/06 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陽平 | 申請(專利權(quán))人 | 上海擎茂微電子科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 溫州知遠專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 上海擎茂微電子科技有限公司 |
地址 | 201100 上海市閔行區(qū)紫星路588號2幢1169室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種改善擊穿特性的平面柵雙極型晶體管結(jié)構(gòu),包括半導(dǎo)體襯底、柵氧化層、多晶硅柵極、浮空柵極場板、發(fā)射極電極、FOX區(qū)、JFET區(qū)、二氧化硅絕緣介質(zhì)層、N+發(fā)射極區(qū)、P型基區(qū)、P+深阱區(qū)、P型集電極區(qū)以及集電極,浮空柵極場板與多晶硅柵極相連,并在器件表面跨過柵極的上方延伸至JFET區(qū)上方。本實用新型通過設(shè)置半導(dǎo)體襯底、柵氧化層、多晶硅柵極、浮空柵極場板、發(fā)射極電極、FOX區(qū)、JFET區(qū)、二氧化硅絕緣介質(zhì)層、N+發(fā)射極區(qū)、P型基區(qū)、P型集電極區(qū)和集電極的相互配合,達到了擊穿特性好的優(yōu)點,解決了現(xiàn)有的平面柵雙極型晶體管結(jié)構(gòu)擊穿特性差的問題,方便了人們使用,提高了平面柵雙極型晶體管結(jié)構(gòu)的實用性。 |
