混合型CMOS圖像傳感器及其制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201110434532.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102522414B | 公開(公告)日 | 2014-07-30 |
申請公布號 | CN102522414B | 申請公布日 | 2014-07-30 |
分類號 | H01L27/146(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 苗田樂;張俊超;陳杰;汪輝;方娜;田犁 | 申請(專利權(quán))人 | 重慶國科應(yīng)用技術(shù)研究所有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 中國科學院上海高等研究院;重慶國科應(yīng)用技術(shù)研究所有限公司 |
地址 | 201210 上海市浦東新區(qū)??坡?9號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種混合型CMOS圖像傳感器及其制作方法,包括:圖像傳感器,形成于支撐襯底表面;所述支撐襯底的材料是半導體材料;所述圖像傳感器包括驅(qū)動電路區(qū)域和光學傳感區(qū)域;其特征在于:驅(qū)動電路區(qū)域的支撐襯底中具有頂層半導體層,所述頂層半導體層通過絕緣埋層與支撐襯底隔離;驅(qū)動電路區(qū)域中的晶體管形成于所述頂層半導體層中;光學傳感區(qū)域中的支撐襯底中具有頂層光吸收層,所述頂層光吸收層通過絕緣埋層與支撐襯底隔離;光學傳感區(qū)域中的光學傳感器形成于所述頂層光吸收層中。本發(fā)明可以大大提高光的吸收效率,并防止由于宇宙射線照射產(chǎn)生的大量的電子空穴對CMOS圖像傳感器的感光區(qū)域以及驅(qū)動電路造成的器件失效或者質(zhì)量下降等影響。 |
