化學(xué)氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811055932.0 申請日 -
公開（公告）號 CN110885973A 公開（公告）日 2020-03-17
申請公布號 CN110885973A 申請公布日 2020-03-17
分類號 C23C16/458;C23C16/455;C23C16/46 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 丁欣 申請（專利權(quán)）人 上海埃延管理咨詢合伙企業(yè)（有限合伙）
代理機構(gòu) 上海華誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 肖華
地址 200331 上海市普陀區(qū)祁連山南路2891弄105號2605室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備。該設(shè)備包括反應(yīng)腔，反應(yīng)腔內(nèi)包括多個用于承載襯底的基座，多個基座為圓盤形，工藝氣體通過管路進入反應(yīng)腔，多個基座中的每個基座彼此之間并列排布，各個基座的圓心在同一直線上；各個基座承載襯底的上表面彼此相互平行或在同一平面上；各個基座的轉(zhuǎn)動軸線在同一平面上，各個基座相對于彼此獨立地旋轉(zhuǎn)；以及工藝氣體沿各個基座的上表面，垂直于各個基座的各個圓心的連線方向流動。