一種X光管陽極靶及其制備方法與應用的X光管

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200910076933.8 申請日 -
公開（公告）號 CN101465260B 公開（公告）日 2010-11-10
申請公布號 CN101465260B 申請公布日 2010-11-10
分類號 H01J35/08(2006.01)I;H01J35/00(2006.01)I;H01J9/02(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 吳應榮 申請（專利權）人 北京布萊格科技有限公司
代理機構 北京路浩知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 布萊格科技（北京）有限公司;北京北達智匯微構分析測試中心有限公司
地址 100871 北京市海淀區(qū)中關村北大街116號北京大學科技園孵化器2號樓2112室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種X光管陽極靶，其表面具有多個微米尺度鋸齒狀溝槽，且所述鋸齒狀溝槽的方向正對X光管的出射口。本發(fā)明還對應提出一種新型陽極靶的制備方法及其應用的X光管。本發(fā)明的技術方案將X光管中聚焦電子束轟擊的靶陽極表面區(qū)域制成多鋸齒溝槽，可以大大提高X光管中電子束能量的利用效率，增加在出射方向上的X射線光強度。