測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610254511.5 申請日 -
公開（公告）號 CN105842832B 公開（公告）日 2019-01-04
申請公布號 CN105842832B 申請公布日 2019-01-04
分類號 G02B17/08;G01M11/02 分類 光學;
發(fā)明人 鄢雨;吳秀榕;梁小生 申請（專利權(quán)）人 湖南戴斯光電有限公司
代理機構(gòu) 長沙星耀專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 湖南戴斯光電有限公司
地址 410600 湖南省長沙市寧鄉(xiāng)金洲新區(qū)金水西路008號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明是測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置，它由平面反射鏡、透鏡組和球面反射鏡組成。平面反射鏡有兩個工作面；透鏡表面均鍍高透過率膜。球面反射鏡球面部分反射。透鏡組和球面反射鏡形成一倍遠心成像系統(tǒng)。高功率激光光束的待測試截面位于所述的一倍遠心成像系統(tǒng)的物面。高功率激光光束經(jīng)平面反射鏡的工作面部分反射光，經(jīng)透鏡組和球面反射鏡的球面部分反射，再經(jīng)過透鏡組和平面反射鏡，抵達位于一倍遠心成像系統(tǒng)像面的光束分析儀的工作面上。經(jīng)光束分析儀數(shù)據(jù)處理，便可得知高功率激光光束任一截面的強度分布。