一種酸性蝕刻電解再生液回用的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010651932.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113913829A | 公開(公告)日 | 2022-01-11 |
申請公布號 | CN113913829A | 申請公布日 | 2022-01-11 |
分類號 | C23F1/46(2006.01)I;C25C1/12(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 黃明安;王璇;劉軍;李光輝 | 申請(專利權(quán))人 | 四會富仕電子科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 526236廣東省肇慶市四會市下茆鎮(zhèn)電子產(chǎn)業(yè)園2號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明的目的是提供一種酸性蝕刻電解再生液回用的方法,本發(fā)明將濃鹽酸進行再利用,添加到再生液中促使循環(huán)系統(tǒng)中累積的氯化鈉析出,并排出到系統(tǒng)以外,再生液中加入的濃鹽酸又通過酸度控制的方式自動加入到蝕刻液中;水加入到再生液中降低了氯離子和比重,又通過比重控制的方式也加入到蝕刻液中;本發(fā)明實現(xiàn)了再生液的回用難題,沒有增加化學(xué)品的成本,沒有再生液的增量問題。 |
