定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201520585304.9 申請日 -
公開（公告）號 CN204939604U 公開（公告）日 2016-01-06
申請公布號 CN204939604U 申請公布日 2016-01-06
分類號 C23C14/50(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 白春陽;佟鑫;王吉哲 申請（專利權(quán)）人 大連共享偉業(yè)科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 大連非凡專利事務(wù)所 代理人 高學(xué)剛
地址 116000 遼寧省大連市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)遼河西路155棟-B-3-2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開一種定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架，包括機(jī)架，在機(jī)架上軸承支承有主軸（1），主軸（1）上連接有公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤（2），公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤（2）的圓周上均勻分布有多個分軸（3），其特征在于：在所述的機(jī)架上軸承支承有通過自轉(zhuǎn)電機(jī)（4）驅(qū)動的副軸（5），副軸（5）的頂端設(shè)置有副軸齒（6），在所述的主軸（1）上還轉(zhuǎn)動支承有自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤（8），在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤（8）的外圓周上固定連接有雙層齒圈（9），雙層齒圈（9）的下層齒圈（10）與所述的副軸齒（6）嚙合，雙層齒圈（9）的上層齒圈（11）與分軸齒（7）嚙合，而所述的分軸齒（7）連接在分軸（3）上。