一種聚焦型線性陽(yáng)極層離子源
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911066338.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN110767522B | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-03-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110767522B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-18 |
| 分類號(hào) | H01J27/02（2006.01）I;H01J27/14（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 陳偉;高生;何國(guó)軍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 無(wú)錫誠(chéng)承電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京權(quán)智天下知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 張海濤 |
| 地址 | 214000 江蘇省無(wú)錫市新吳區(qū)錫梅路88號(hào)無(wú)錫環(huán)普萬(wàn)聯(lián)國(guó)際產(chǎn)業(yè)園B號(hào)廠房一樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于離子源技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種聚焦型線性陽(yáng)極層離子源，包括一具有長(zhǎng)條狀安裝槽的殼體，所述安裝槽的槽腔中心處設(shè)有一豎向布置的磁體，所述磁體與安裝槽的槽壁之間設(shè)有陽(yáng)極，所述安裝槽的槽口中心處設(shè)有內(nèi)陰極，所述內(nèi)陰極的兩側(cè)對(duì)稱布置有外陰極，所述外陰極與內(nèi)陰極的磁極靴之間形成陰極縫隙，且該內(nèi)陰極的最低面低于外陰極的最低面2?5mm；通過(guò)將內(nèi)陰極的最低面設(shè)置成低于外陰極的最低面，內(nèi)外陰極高度差所形成的磁場(chǎng)法線，控制噴射角度，形成聚焦效應(yīng)可以顯著的提高單位面積上的等離子體的數(shù)量，使得相同的功率下，該線性陽(yáng)極層離子源能達(dá)到更較好的表面處理效果，或表面刻蝕，或薄膜表面輔助沉積的效果。 |
