電子束熔煉去除硅中揮發(fā)性雜質(zhì)的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821682499.9 申請日 -
公開（公告）號 CN209383398U 公開（公告）日 2019-09-13
申請公布號 CN209383398U 申請公布日 2019-09-13
分類號 C01B33/037（2006.01）I 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 孫雨萱; 郭校亮; 張磊; 張思源; 肖承祥 申請（專利權(quán)）人 青島藍(lán)光晶科新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 青島藍(lán)光晶科新材料有限公司
地址 266237 山東省青島市即墨市青島藍(lán)色硅谷核心區(qū)創(chuàng)業(yè)中心一期-海創(chuàng)中心3號樓A座4-401
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種電子束熔煉去除硅中揮發(fā)性雜質(zhì)的裝置，屬于硅的純化技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型所述的裝置包括超聲波發(fā)生器，超聲波發(fā)生器設(shè)于水冷底座下方，水冷底座設(shè)有超聲傳動桿安裝孔，超聲波發(fā)生器的超聲傳動桿穿過超聲傳動桿安裝孔并與水冷坩堝相連。本實用新型公開了一種結(jié)構(gòu)簡單、緊湊且熔煉效率高的熔煉裝置。