化學(xué)氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811055932.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110885973A 公開(kāi)（公告）日 2020-03-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN110885973A 申請(qǐng)公布日 2020-03-17
分類號(hào) C23C16/458;C23C16/455;C23C16/46 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 丁欣 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海埃延半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海華誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 肖華
地址 200331 上海市普陀區(qū)祁連山南路2891弄105號(hào)2605室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備。該設(shè)備包括反應(yīng)腔，反應(yīng)腔內(nèi)包括多個(gè)用于承載襯底的基座，多個(gè)基座為圓盤形，工藝氣體通過(guò)管路進(jìn)入反應(yīng)腔，多個(gè)基座中的每個(gè)基座彼此之間并列排布，各個(gè)基座的圓心在同一直線上；各個(gè)基座承載襯底的上表面彼此相互平行或在同一平面上；各個(gè)基座的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線在同一平面上，各個(gè)基座相對(duì)于彼此獨(dú)立地旋轉(zhuǎn)；以及工藝氣體沿各個(gè)基座的上表面，垂直于各個(gè)基座的各個(gè)圓心的連線方向流動(dòng)。