一種高質(zhì)量貝塞爾光束透鏡

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020014364.6 申請日 -
公開（公告）號 CN211478691U 公開（公告）日 2020-09-11
申請公布號 CN211478691U 申請公布日 2020-09-11
分類號 G02B3/00(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 于海波;范小貞 申請（專利權(quán)）人 西安卓鐳激光技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京東正專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 北京卓鐳激光技術(shù)有限公司;西安卓鐳激光技術(shù)有限公司;深圳卓鐳激光技術(shù)有限公司
地址 101318北京市順義區(qū)天竺空港工業(yè)區(qū)B區(qū)安慶大街9號巨鴻大廈B座310
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種高質(zhì)量貝塞爾光束透鏡，包括頂部弧面的圓錐體狀錐透鏡，該錐透鏡表面區(qū)域包括底平面、側(cè)曲面和錐頂曲面，底平面為錐透鏡的底面，并為激光入射錐透鏡上的入射面；側(cè)曲面為錐透鏡的側(cè)面，為激光光線在錐透鏡上的出射面；錐頂曲面位于錐透鏡頂角區(qū)域，錐頂曲面外側(cè)鍍有高反膜層。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是在錐透鏡制造過程中通過控制鍍膜來控制錐透鏡上出射激光能量分布，從而達(dá)到消除錐透鏡頂角影響，減少貝塞爾光能量波動(dòng)，同時(shí)又不存在引入光闌時(shí)的衍射影響，加工和使用方便。??