鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022026805.7 申請日 -
公開（公告）號 CN213476141U 公開（公告）日 2021-06-18
申請公布號 CN213476141U 申請公布日 2021-06-18
分類號 C25D19/00（2006.01）I;C25D17/00（2006.01）I;C25D5/00（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 蔣立志 申請（專利權(quán)）人 維達(dá)力實(shí)業(yè)（深圳）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 戴志攀
地址 518129廣東省深圳市龍崗區(qū)坂田街道雅園路3號3樓、4樓、5樓、6樓的1、2、3、4層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種鍍膜設(shè)備，包括進(jìn)料倉、鍍膜倉和出料倉，進(jìn)料倉設(shè)有間隔的第一閘門和第二閘門以將進(jìn)料倉分隔為第一準(zhǔn)備腔、上料腔和第二準(zhǔn)備腔，上料腔與鍍膜倉連通且與第一準(zhǔn)備腔和第二準(zhǔn)備腔分別相鄰，出料倉設(shè)有第三閘門和第四閘門以將出料倉分隔為第一下料腔、暫存腔和第二下料腔，暫存腔與鍍膜倉連通且與第一下料腔和第二下料腔分別相鄰。如此，第一準(zhǔn)備腔和第二準(zhǔn)備腔可以輪流進(jìn)料和抽真空，第一下料腔和第二下料腔可以輪流下料和抽真空，而上料腔、鍍膜倉和暫存腔不受影響，始終保持鍍膜所需的真空狀態(tài)，可以一直連續(xù)不斷地鍍膜，從而解決了在進(jìn)料、出料的過程中一般鍍膜設(shè)備無法進(jìn)行鍍膜的問題，使效率大大提高。