制備金屬和陶瓷復合膜的真空離子鍍膜機
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN98249501.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN2356042Y | 公開(公告)日 | 1999-12-29 |
申請公布號 | CN2356042Y | 申請公布日 | 1999-12-29 |
分類號 | C23C14/35 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 胡顯奇 | 申請(專利權)人 | 深圳市黃金屋真空科技有限公司 |
代理機構 | - | 代理人 | - |
地址 | 518053廣東省深圳市華僑城東E工業(yè)區(qū)5棟5樓東座胡顯奇轉 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種用于金屬表面處理可制備金屬和陶瓷復合膜的真空離子鍍膜機。它是在常規(guī)的真空離子鍍膜機上再配置射頻(R.F)磁控濺射靶,將其與多個電弧蒸發(fā)靶、多個多種直流(D.C)磁控濺射靶有機地組合在一個真空室內,制備出既有金屬相又有陶瓷相特性的多層多種復合膜,尤其是能鍍制出透明陶瓷保護膜,使金屬表面改性達到高耐磨損、強耐腐蝕的目的。 |
