一種MPCVD制備摻雜氮磷石墨烯的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201810824857.3 申請日 -
公開（公告）號 CN108910867A 公開（公告）日 2018-11-30
申請公布號 CN108910867A 申請公布日 2018-11-30
分類號 C01B32/186 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 陳木成;馬肅霜 申請（專利權(quán)）人 恒力（廈門）石墨烯科技產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 361003 福建省廈門市中國(福建)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)廈門片區(qū)翔云一路95號運(yùn)通中心604B單元之五一八
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種MPCVD制備摻雜氮磷石墨烯的方法，在微波等離子體沉積裝置中進(jìn)行，包括步驟如下：S1：將于P2O5粉末放入罩子帶有孔的石英坩堝中，然后置于離子體反應(yīng)腔內(nèi)；S2：在清洗烘干過的硅襯底上鍍一層金屬催化劑薄膜，然后置于沉積室中。本發(fā)明通過微波等離子體氣相化學(xué)沉積，直接反應(yīng)制備得到氮磷共摻雜石墨烯，摒棄了對環(huán)境和設(shè)備存在污染和腐蝕的氣體，制備工藝更加綠色環(huán)保；與氧化還原法相比，本發(fā)明方法性價(jià)比高，產(chǎn)量高，可制備大片徑氮磷共摻雜石墨烯，厚度易于控制，可以規(guī)?；a(chǎn)，并且石墨烯中的N原子和P原子摻雜濃度可調(diào)，具有較高的科研與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用價(jià)值。