一種P型半導(dǎo)體石墨烯的制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810957102.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108975319A 公開（公告）日 2018-12-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN108975319A 申請(qǐng)公布日 2018-12-11
分類號(hào) C01B32/186 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 陳木成 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 恒力（廈門）石墨烯科技產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 361003 福建省廈門市中國(guó)(福建)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)廈門片區(qū)翔云一路95號(hào)運(yùn)通中心604B單元之五一八
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制備領(lǐng)域，公開了一種P型半導(dǎo)體石墨烯的制備方法，本發(fā)明使用微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)法制備P型半導(dǎo)體石墨烯，由以下步驟組成：將清洗干凈并烘干過的特定基底放在反應(yīng)臺(tái)面上；將反應(yīng)氣體和硼源與H2混合氣依次通入反應(yīng)室，控制反應(yīng)條件，即可獲得摻雜硼的P型半導(dǎo)體石墨烯。本發(fā)明使用MPCVD法制備P型半導(dǎo)體石墨烯，將硼源與部分氫氣混合通入反應(yīng)艙室中，使得硼源在艙室中分布更加均勻，在石墨烯上摻雜的均一性更易控制，從而獲得更高品質(zhì)的P型半導(dǎo)體石墨烯，且工藝更加環(huán)保，可實(shí)現(xiàn)大規(guī)模工業(yè)化應(yīng)用。