清洗模塊

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122319452.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN215866367U 公開(kāi)（公告）日 2022-02-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN215866367U 申請(qǐng)公布日 2022-02-18
分類號(hào) G01N21/15（2006.01）I;G01N21/76（2006.01）I;G01N21/01（2006.01）I;G01N35/04（2006.01）I;G01N35/00（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 許行尚;杰弗瑞·陳 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣西艾珉生物科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京北辰聯(lián)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 陸中丹
地址 210000江蘇省南京市江寧區(qū)科學(xué)園乾德路2號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種清洗模塊，用于反應(yīng)杯架的清洗，包括有清洗針組件；在所述清洗針組件下方設(shè)置有磁鐵組件；所述磁鐵組件包括有第一清洗磁鐵組、第二清洗磁鐵組和第三清洗磁鐵組，其中，所述第一、第二清洗磁鐵組的N與S磁極交替設(shè)置，所述第二清洗磁鐵組設(shè)置在與反應(yīng)杯位下部對(duì)應(yīng)的位置。利用磁鐵組件中的磁鐵將反應(yīng)杯位中的磁珠免疫復(fù)合物吸附后，進(jìn)行清洗；N與S磁極交替設(shè)置，使清洗更徹底；第二清洗磁鐵設(shè)置在底面（與反應(yīng)杯位下部對(duì)應(yīng)的位置），使磁珠免疫復(fù)合物吸附在反應(yīng)杯位底部，便于后續(xù)化學(xué)發(fā)光檢測(cè)。