一種Rb摻雜的石榴石型固態(tài)電解質(zhì)的表面處理方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110348448.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113073309A | 公開(公告)日 | 2021-07-06 |
申請公布號 | CN113073309A | 申請公布日 | 2021-07-06 |
分類號 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;C23C16/56(2006.01)I;H01M10/0525(2010.01)I;H01M10/0562(2010.01)I;H01M10/058(2010.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 唐浩林;王仲明;陳智偉;陳志華;詹心泉 | 申請(專利權(quán))人 | 光鼎銣業(yè)(廣州)集團有限公司 |
代理機構(gòu) | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 | 代理人 | 張秋燕 |
地址 | 510040廣東省廣州市越秀區(qū)德政北路401-409號811房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種Rb摻雜的石榴石型固態(tài)電解質(zhì)的表面處理方法,采用具有曝光模式的原子層沉積系統(tǒng)在銣摻雜的石榴石型固態(tài)電解質(zhì)LLZRO陶瓷片上直接鍍一層對空氣穩(wěn)定的Li3PO4(LPO)薄膜,修飾在LLZRO陶瓷片的兩側(cè)。該表面處理方法利用原子沉積法鍍一層LPO膜,有利于降低界面的阻抗恒流充放電過程中,抑制鋰枝晶的生長,具有穩(wěn)定的電化學(xué)性能。 |
