一種高斷裂延伸率的超薄薄膜電鍍工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910161805.7 申請日 -
公開（公告）號 CN109881221A 公開（公告）日 2019-06-14
申請公布號 CN109881221A 申請公布日 2019-06-14
分類號 C25D3/38（2006.01）I; C25D5/10（2006.01）I; C25D7/00（2006.01）I; C25D5/50（2006.01）I; C25D5/56（2006.01）I; H01B5/14（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設備〔4〕;
發(fā)明人 葉穎輝 申請（專利權）人 深圳市匯美新科技有限公司
代理機構 北京挺立專利事務所（普通合伙） 代理人 深圳市匯美新科技有限公司
地址 518000 廣東省深圳市龍崗區(qū)龍城街道黃閣路441號龍崗天安數(shù)碼創(chuàng)新園二號廠房A304
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種高斷裂延伸率的超薄薄膜電鍍工藝，包括配置電鍍溶液，電鍍溶液為硫酸銅和輔助溶劑混合的溶液，所述輔助溶劑包括鹽酸，硫酸，光亮劑，溶液溫度為20℃～50℃；將薄膜浸泡溶液中電鍍，然后離開溶液進行烘烤，烘烤溫度為140?160℃，烘烤時時間20?300s。使用上述工藝加工的超薄薄膜，具有極高的斷裂延伸率，適用范圍廣，可廣泛應用于儲能單元，其應用上述工藝時，制得的超薄薄膜，不氧化。