大氣流場光學測量裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201820854127.3 申請日 -
公開（公告）號 CN208506288U 公開（公告）日 2019-02-15
申請公布號 CN208506288U 申請公布日 2019-02-15
分類號 G01W1/02;G08C17/02 分類 測量；測試;
發(fā)明人 張世寬;韓永;薛祖松 申請（專利權(quán)）人 安徽永冠信息技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 上海精晟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 馮子玲
地址 230000 安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園二期F5樓1507室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了大氣流場光學測量裝置，涉及環(huán)境監(jiān)測技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型包括固定座；兩固定座之間并排設(shè)置有導軌；兩導軌的端部均與固定座一表面滑動連接；兩導軌上均滑動連接有第一滑座和第二滑座；兩第一滑座頂部均轉(zhuǎn)動連接有第一支撐桿；兩第一支撐桿的頂端通過第一支撐板連接；第一支撐板上表面固定裝設(shè)有發(fā)射光路裝置；兩第二滑座頂部均轉(zhuǎn)動連接有第二支撐桿；兩第二支撐桿的頂端通過第二支撐板連接；第二支撐板上表面固定裝設(shè)有一接收光路裝置；接收光路裝置上裝設(shè)有無線信號發(fā)射器。本實用新型通過利用第一滑座和第二滑座調(diào)節(jié)發(fā)射光路裝置與接收光路裝置之間的距離及對準度，提高了檢測精度及檢測效果。