一種用于PCB內(nèi)層板的對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110232283.2 申請日 -
公開（公告）號 CN112987517A 公開（公告）日 2021-06-18
申請公布號 CN112987517A 申請公布日 2021-06-18
分類號 G03F9/00;G03F1/42;G03F7/20;H05K3/06;H05K3/46 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 霍大云;張斌;劉麟躍;劉偉 申請（專利權(quán)）人 錫凡半導(dǎo)體無錫有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 214000 江蘇省無錫市新吳區(qū)長江南路35號206
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及激光直寫光刻技術(shù)的領(lǐng)域，尤其是涉及一種用于PCB內(nèi)層板的對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法，其包括光源、準(zhǔn)直裝置、掩膜板，平臺的一邊角處開有通孔，光源連接在平臺的底側(cè)且位于通孔的下方，準(zhǔn)直裝置連接于光源的上側(cè)，掩膜板的表面設(shè)有第一掩膜圖形、第二掩膜圖形，第一掩膜圖形位于通孔的下方，光源發(fā)出的光線依次經(jīng)過準(zhǔn)直裝置、掩膜板、通孔后映射在PCB內(nèi)層板的反面，第二掩膜圖形位于平臺的外側(cè)，光刻設(shè)備上滑移連接有對位相機(jī)。獲取標(biāo)記與曝光系統(tǒng)的實際位置關(guān)系的方法為正面曝光→對位→標(biāo)記→復(fù)位→反面曝光。本申請具有獲取標(biāo)記與曝光系統(tǒng)的實際位置關(guān)系，從而確定PCB內(nèi)層板正反面曝光圖形的相對位置的效果。